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L75 / High Pressure高温膨胀仪
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型号:

更新时间:2024-10-29  |  阅读:6664

详情介绍

L75 / High Pressure高温膨胀仪大大拓展了热分析的应用范围。该系统可以在温度从室温到1100/1400/1800 ℃,并在该压力达到100/150 bar的环境中测量的材料的膨胀(长度的改变)。此设备是目前世界上可用的高压膨胀仪。可选用水蒸气发生装置和多气体控制系统。

为了测量数据和拓宽测量范围,可以使用QMS和FTIR对逸出的气体进行分析。耦合后的功能超过单独部件的总和。用户通过LINSEIS耦合技术和综合硬件和软件,采用不同数据库对数据进行分析以得到*的结果。

L75 / High Pressure高温膨胀仪技术参数:


型号

DIL L75 HP / 1

DIL L75 HP/2

温度范围*

RT -- 1100°C

RT -- 1400/1800°C

zui大压力

zui大150 bar

zui大100 bar

真空

10E-4 mbar

10E-4 mbar

样品支架

熔融石英 < 1100°C

熔融石英 < 1100°C

Al2O3 < 1750°C

Al2O3 < 1750°C

zui大样品长度

50 mm

50 mm

样品直径

7/12/20 mm

7/12/20 mm

可调样品压力

zui大 1000 mN

zui大 1000 mN

测量范围

500 / 5000 µm

500 / 5000 µm

分辨率

0.125 nm

0.125 nm

可选装置

压力可控混气系统 (MFC´s)

压力可控混气系统 (MFC´s)

气氛

惰性, 氧化性, 还原性, 真空

惰性, 氧化性, 还原性, 真空

* 取决于不同炉体

* 不适用于石墨加热炉





 
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